• Sello directo disco-recubrimiento entre el disco de fluoropolímero
ECTFE y el recubrimiento con TFM para un cierre positivo. El disco
de compensación especialmente diseñado se eleva de forma rápida
desde la superficie de sellado para minimizar el desgaste y reducir
el torque operacional.
• El acople disco-recubrimiento especial aísla los componentes de la
válvula de los medios del proceso. No existe contacto de los fluidos
del proceso con el sello y el vástago. En la situación poco probable
de falla del sello, las fugas son expulsadas hacia afuera para
proteger la integridad del proceso. La camisa de TFM está formada
íntegramente como parte del recubrimiento para aislar el cuerpo de
CPVC.
• El vástago sólido de acero inoxidable tipo 316 completamente
aislado está adicionalmente recubierto de PTFE como protector de
seguridad.
• El cuerpo de CPVC estilo Lug (asa) resistente a los químicos y
a la corrosión ofrece una almohadilla de montaje de actuación
totalmente moldeada y capacidad para manejar temperatura en
ascenso hasta 200ºF.
• Los insertos Lug (Asa) de acero inoxidable 316 proveen una
instalación rápida de la válvula unidireccional y una fácil integración
al sistema.
• El Operador de Engranaje de Bajo Perfil se caracteriza por un manejo
altamente eficiente del tornillo sin fin con un indicador de posición
incorporado y una manivela de polipropileno de alto impacto. La
carcasa del operador está revestida con pintura electrostática para
una limpieza mejorada. Reversible para operar al lado derecho o
izquierdo.
• Presión Nominal Interna Máxima de 150 psi a 73°F.
Instalación Unidireccional con insertos de Lug:
Halar® recubrimientos ECTFE se recomiendan para sistemas de fluidos de alta pureza en tecnologías de semiconductores, farmacéutica y otras industrias, en particular cuando la superficie proceso debe ser suave, pura, con bajo nivel de extraíbles, y resistente químicamente. La superficie extremadamente lisa y su resistencia química hacen que Halar® prevenga el crecimiento microbiano. Por estas razones Halar® es utilizando manejando agua ultra pura tanto en semiconductores como en la industria farmacéutica.
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